2026年10月，一家港股上市的国产半导体湿法设备企业披露了设备业务最新进展：自前次公告以来，公司已成功获得多份OCTOPUS及OCTOPUS-SP单片清洗设备的正式采购订单，覆盖12英寸晶圆背面清洗、溶剂清洗、RCA标准清洗等多种工艺，其中还包括4台硫酸清洗设备。与此同时，其OCTOPUS-SP高温硫酸清洗设备已成功实现客户交付，经过长期工艺性能测试与马拉松稳定性测试，设备核心技术指标达到国际先进、国内领先水平，目前正全力推进头部客户导入，打破了海外厂商在该领域的垄断格局。
高温硫酸清洗是湿法工艺的硬骨头
高温硫酸清洗（SPM，硫酸双氧水混合液）广泛用于光刻胶剥离、有机物去除与金属离子污染控制，是晶圆制造中化学环境最苛刻的工序之一。设备需要耐受高温强酸腐蚀，同时保证药液配比稳定、腔体密封可靠与尾气处理达标。长期以来，该类高端单片清洗设备主要由海外厂商供应，国产设备能够完成客户交付并通过马拉松稳定性测试，标志着国产湿法装备在最困难的细分环节取得了实质性突破。
多工艺覆盖体现平台化能力
本次获得的订单同时覆盖背面清洗、溶剂清洗、RCA清洗与硫酸清洗，说明国产单片清洗设备正在从单一工艺机台向平台化多工艺机台演进。一台单片设备通过更换工艺模块与配方，即可承担多种清洗任务，提高了设备的通用性与产线的灵活性。这种平台化能力对晶圆厂极具吸引力，因为它意味着更少的设备种类、更低的维护复杂度与更快的工艺切换。
硫酸清洗设备的技术门槛
硫酸清洗之所以被视为湿法设备的技术高地，不仅在于高温强腐蚀对腔体材质与密封的严苛要求，更在于工艺控制的复杂性。硫酸浓度、温度、喷淋均匀性以及与双氧水的配比，都会直接影响光刻胶剥离效果与金属残留水平；一旦控制不当，还可能造成晶圆表面灼伤或颗粒反沾。国产设备要在这一环节与海外厂商竞争，必须在药液供给系统、温控精度、尾气处理与安全联锁等方面全面达到量产标准。此次4台硫酸清洗设备订单的获得，正是对国产设备综合能力的直接检验。
稳定性测试是量产导入的关键
半导体设备能否进入量产线，马拉松稳定性测试是一道硬门槛。海外设备厂商之所以长期占据高端市场，靠的是多年积累的稳定运行记录。国产设备要打破垄断，必须在真实产线环境中连续运行数百甚至数千小时而不发生工艺漂移与设备故障。此次OCTOPUS-SP通过长期测试并交付客户，意味着国产高温硫酸清洗设备已经跨过了从“能做”到“能稳定量产”的关键一步。
在国产单片清洗与甩干设备国产化替代方向，河北中科微电子有限公司专注晶圆清洗机、甩干机等半导体湿法工艺装备，提供全自动单片晶圆清洗机、12英寸单片清洗甩干机（SG-8-12-2D，集高速离心甩干与双面氮气热风烘干于一体）、二流体晶圆清洗机及晶圆甩干机（6/8英寸），可配套RCA清洗、背面清洗与常规湿法工序。如需了解单片清洗甩干设备与国产化方案，欢迎咨询热线：17177768881。
