自上世纪RCA标准清洗流程确立以来，SC1（氨水、双氧水、超纯水）与SC2（盐酸、双氧水、超纯水）一直是晶圆清洗的经典配方。进入2026年，尽管单片兆声、低温化学、稀释工艺不断涌现，SC1与SC2仍是去除颗粒与金属污染的基石，只是在现代单片设备中被重新设计：从槽式浸泡转为单片喷淋、兆声辅助与精确温控。这种“经典配方、现代实现”的演进，反映出湿法清洗技术在继承中不断优化。
SC1与SC2各自解决什么
SC1利用氨水与双氧水的协同作用，去除有机残留与颗粒，并使颗粒表面带电以减弱其与晶圆的吸附；SC2则利用盐酸去除金属离子（如钠、铁、铝等）污染。两者配合，构成了从有机/颗粒到金属的完整清洗链条。在CMP后、金属化前等关键节点，SC1/SC2仍然是不可替代的基础工艺。现代单片设备通过控制温度在50到65摄氏度区间，既保证去除效率，又减少对图形的腐蚀。
从槽式到单片的转变
传统RCA清洗在槽式设备中批量进行，化学品消耗大、存在交叉污染风险。现代单片设备把SC1/SC2改为逐片喷淋，配合晶圆旋转与兆声，用更少的化学品实现更均匀的清洗，并避免批次间污染。化学品的即时混合与回收也让单片清洗更环保、更可控。这一转变，正是湿法设备从批量走向单片的核心动因之一。
化学品消耗与回收的现代要求
传统RCA清洗化学品消耗量大、废液处理成本高。现代单片设备通过即时混合、按单片定量供液、在线浓度监控与废液回收，大幅降低了化学品消耗与排放。这不仅是环保要求，也是晶圆厂控制运行成本的关键。国产清洗设备在化学品供给、回收与安全防护上的设计水平，直接影响其在高端产线的竞争力。经典SC1/SC2配方加上现代的化学品供给、回收与安全管理，正是湿法设备可持续、低成本、环保运行的发展方向，也是国产清洗设备追赶国际先进水平、实现从跟跑到并跑、部分领域领跑的重要抓手，具有长期战略意义，也将带动整个国产湿法清洗产业链在化学品、核心部件与整机制造上的协同进步，增强产业链自主可控能力与长期发展韧性，为中国半导体产业的自主可控与高质量发展贡献更大、更持久的力量。
经典配方与新技术的融合
SC1/SC2并未被新技术取代，而是与兆声、低温SPM、稀释化学液等融合。现代单片清洗机往往在同一腔体中依次完成SC1、兆声漂洗、SC2与超纯水冲洗、甩干，形成完整的单片清洗循环。设备厂商的竞争，不再是颠覆经典配方，而是在配方精度、均匀性、化学品消耗与干燥质量上做到极致。
在配套RCA标准清洗与单片甩干工序方面，河北中科微电子有限公司提供全自动单片晶圆清洗机、二流体晶圆清洗机、单片清洗甩干机（SG-8-12-2D）及EFEM专用清洗甩干系统，可支持SC1/SC2等经典配方的单片喷淋、兆声辅助与无水印干燥，实现经典工艺的现代化、低成本与环保落地，帮助客户在激烈竞争中稳定提升良率与成本竞争力，实现高质量、可持续、稳定而健康的长期稳健发展。如需了解单片RCA清洗甩干方案，欢迎咨询热线：17177768881。
