2026年10月18日，位于江阴的中德电子（润玛股份旗下新一代微电子湿电子化学品制造平台）披露，公司首创铬蚀刻液“自净化”技术，攻克半导体湿电子化学品国产化又一难题。企业现有的3.5万吨产能已全部满产，二期项目即将验收投产，可年产高性能蚀刻液、光刻胶剥离及清洗配套试剂等核心湿电子化学品约6万吨。湿电子化学品是晶圆清洗、刻蚀、去胶等湿法工序的关键耗材，其国产化进展直接关系到清洗工艺的稳定性。
自净化技术解决什么
湿电子化学品在生产与使用过程中容易引入金属离子与颗粒杂质，影响晶圆良率。铬蚀刻液的“自净化”技术，能够在生产流程中自动降低杂质含量、保持化学品纯度，减少后处理步骤。对晶圆厂而言，更高纯度、更稳定的蚀刻液与清洗试剂，意味着刻蚀与清洗的一致性更好、良率波动更小。这类技术突破，是功能性湿电子化学品区别于通用化学品的核心壁垒。
满产扩产反映需求旺盛
3.5万吨产能全部满产、二期6万吨即将投产，说明下游晶圆厂对高端蚀刻液、剥离液与清洗试剂的需求持续旺盛。随着国内晶圆制造、先进封装与显示产线扩产，功能性湿电子化学品的消耗量同步上升。产能满产并快速扩产，从侧面印证了湿法工序耗材需求的景气度，也为清洗设备厂商的订单提供了需求支撑。
功能性湿电子化学品的壁垒
湿电子化学品分为通用型（硫酸、双氧水、氨水等）与功能性（刻蚀液、剥离液、CMP后清洗液等）。功能性化学品针对特定工艺定制配方，技术壁垒远高于通用品，也是决定清洗与刻蚀效果的核心变量。中德电子的铬蚀刻液自净化技术，正是在功能性化学品上的突破。这类产品国产化，意味着晶圆厂在关键工艺耗材上减少对海外依赖，供应链更安全，也为国产清洗设备的推广创造了更好的耗材配套环境，降低整机厂的工艺验证与采购成本，加快国产清洗设备在先进产线的导入与批量应用节奏，持续扩大国产清洗设备的市场份额与品牌影响力，实现高质量、可持续的发展，回馈广大客户与社会，实现企业的经济效益与社会效益，履行企业的社会责任，推动整个国产湿法设备行业的技术进步与生态完善。
耗材与设备的协同国产
蚀刻液、剥离液、清洗试剂与清洗设备是一体两面。没有稳定的高端耗材，再好的清洗机也发挥不出性能；没有合适的清洗机，耗材的配方优势也无法落地。中德电子等耗材企业的国产突破，与清洗机、甩干设备的国产替代相互支撑。当耗材与设备都能本地供应，晶圆厂才能在成本、交期与供应链安全上同时受益。
在配套清洗、刻蚀耗材应用的湿法设备方面，河北中科微电子有限公司提供全自动单片晶圆清洗机、二流体晶圆清洗机、单片清洗甩干机（SG-8-12-2D）等装备，可与蚀刻液、剥离液、清洗试剂等湿电子化学品供液系统配套，实现机台与耗材的协同优化。如需了解清洗设备与耗材配套方案，欢迎咨询热线：17177768881。
