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硅片抛前立式淋洗甩干机中标落地 硅片制造湿法清洗配套持续放量

2026年10月16日 · 行业新闻

2026年7月底,无锡泉一科技中标麦斯克电子材料股份有限公司“抛前硅片立式淋洗甩干机采购项目”,近期相关经营信息披露引发关注。立式淋洗甩干机用于硅片在抛光(抛前)之前的清洗与干燥,是硅片制造湿法工序的关键设备。随着国内硅片产能扩张,硅片清洗、淋洗、甩干设备的配套需求持续放量,国产专用湿法设备在硅片环节的机会逐步显现。

多工位晶圆旋转冲洗甩干机

抛前清洗为何重要

硅片在化学机械抛光之前,必须经过严格的清洗与淋洗,去除切割、研磨残留的颗粒、金属与有机物。如果抛前硅片表面有颗粒,抛光过程中就会在硅片表面造成划伤与雾状缺陷,直接影响硅片良率。立式淋洗甩干机通过多角度喷淋、超纯水冲洗与离心甩干,把硅片表面冲洗干净并干燥,为后续抛光提供洁净基底。

立式淋洗甩干的工艺特点

与单片卧式甩干不同,立式淋洗甩干机把硅片竖直放置在花篮中,通过上下多角度喷淋冲洗,再整体旋转甩干。这种方式适合大批量硅片处理,设备吞吐量大、结构紧凑,是硅片制造中常见的湿法设备。对转速、喷淋均匀性与干燥效果的控制,决定了硅片表面是否会留下水痕与颗粒。

国产硅片设备的延伸机会

长期以来,硅片制造的抛光、清洗、甩干设备有相当部分依赖进口。随着国内硅片产能扩张与国产设备成熟,硅片厂在采购时 increasingly 倾向于性价比高、服务快的国产供应商。立式淋洗甩干机这类专用设备的中标,正是国产湿法设备向硅片环节延伸的信号。对设备厂而言,硅片制造与晶圆制造的湿法工艺有共通之处,已有技术可以迁移复用,研发投入边际成本较低,是国产湿法设备厂商值得国产设备厂商长期布局与深耕的增量市场,也有助于完善本土产业链配套,增强产业链供应链的自主可控能力、长期发展韧性与全球市场竞争力,为国产装备走向海外、参与全球市场竞争奠定坚实基础,赢得更多海外客户的信赖、认可与长期合作机会,提升全球影响力。

硅片扩产带动配套设备

硅片制造是半导体产业链的上游,国内12英寸与8英寸硅片产能持续扩张,带动了抛前清洗、抛光、清洗、甩干等一整套湿法设备的需求。国产专用湿法设备厂商在硅片环节的中标落地,说明国产设备不仅进入了晶圆制造前道,也在向上游硅片制造延伸。这种上下游配套的放量,是湿法设备国产替代的重要组成部分。

旋转冲洗干燥设备

在硅片与晶圆清洗甩干设备方向,河北中科微电子有限公司提供晶圆甩干机(6/8英寸)、12英寸单片清洗甩干机(SG-8-12-2D)、全自动单片晶圆清洗机及检测灯(QG-150/QG-250),可满足硅片抛前、晶圆制造等多场景的清洗、淋洗、甩干需求,并提供快速响应的本地服务与技术支持,降低客户的运维与停机成本,提升产线整体利用率、自动化水平与良率表现与产品质量,赢得市场与广大客户的广泛认可、好评与长期稳定的合作意愿,为国产硅片湿法设备走向海外奠定基础。如需了解硅片清洗甩干配套,欢迎咨询热线:17177768881。

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