2026年10月，行业对全自动晶圆去胶清洗机市场的盘点显示：2025年国内新建的12条8英寸以上特色工艺产线中，有7条将全自动晶圆去胶清洗机纳入首期设备招标清单，本土供应商参与度达到约86%。去胶清洗是光刻、刻蚀后去除硬化光刻胶与有机残留的关键湿法工序，随着MEMS、功率器件、LED外延片等特色工艺产线密集投产，国产去胶清洗设备的市场空间正在快速打开。
去胶清洗为何是特色工艺刚需
光刻胶在经过刻蚀、离子注入或高温工艺后会硬化成难去除的壳层，必须通过湿法化学（硫酸、双氧水、有机溶剂等）配合兆声、高压喷淋或毛刷去除。特色工艺（MEMS、功率、LED、化合物半导体）晶圆往往厚度不均、图形特殊，对去胶设备的耐腐蚀腔体、温控与多配方切换能力要求高。国产设备厂在这些细分场景灵活响应，比海外厂商更具成本与服务优势。
本土化参与度高的背后
约86%的本土参与度，说明国产去胶清洗机已经从“可用”走向“批量采用”。特色工艺产线对设备成本、交期与定制化要求较高，国产厂商能够快速配合客户调试配方、调整腔体结构，并提供及时的本地服务。相比之下，海外设备在价格、交期与响应速度上竞争力有限。这种本土化趋势，是国产湿法设备在特色工艺领域实现突破的典型样本。
耐腐蚀腔体是去胶设备的关键
去胶常用高温硫酸、双氧水与强溶剂，对腔体材质、管路与密封件腐蚀极强。国产去胶清洗设备普遍采用耐腐蚀材质（如聚四氟乙烯涂层、高纯石英或特种合金），并设计独立的废气与废液处理。腔体的耐用性直接决定设备的维护周期与运行成本，也是客户评价国产去胶设备的重要维度。在这方面积累足够经验，国产设备才能真正替代进口，而非仅在低价上竞争。
从去胶到清洗甩干的整线机会
去胶往往与清洗、漂洗、甩干连成一条湿法工序线。客户在采购去胶设备时，往往希望供应商能同时提供后续的漂洗、颗粒去除与干燥方案。国产设备厂若能提供“去胶—清洗—甩干”一体化单元，就能提高单台价值量并增强客户粘性。这也是从单机销售走向整线配套、提升客户粘性的重要机会，值得国产设备厂长期布局研发、工艺验证与客户服务，逐步形成自有品牌的干燥技术体系与工艺数据库，摆脱对海外干燥技术与核心部件的依赖，为国产单片清洗机的高端化、系列化提供有力支撑，也有助于提升整机的市场价值与客户粘性，形成持续的客户复购与良好市场口碑，支撑企业长期、稳健、可持续地发展壮大，在行业周期波动中始终保持技术、产品、服务与市场的领先地位。
在配套去胶、清洗与甩干的湿法工艺方面，河北中科微电子有限公司提供全自动单片晶圆清洗机、磷化铟清洗机（SQX-150-5Y1D）、二流体晶圆清洗机、单片清洗甩干机及晶圆下片台等设备，可按MEMS、功率、LED、化合物半导体等特色产线的工艺需求灵活配置，支持多配方切换。如需了解去胶清洗甩干一体化方案，欢迎咨询热线：17177768881。
