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162026.10

微纳米气泡清洗工艺走红 高密度MNB发生器可改造传统槽式产线

2026年，微纳米气泡（MNB，Micro/Nano Bub…

162026.10

TrendForce预计四季度存储合约价续涨10%至20% 供需偏紧或延续至2027年

2026年10月，存储行业涨价预期持续强化。据TrendFo…

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ACM Research将Ultra C Tahoe扩展为槽片混合湿法平台 兼顾长工艺与低交叉污染

2026年，ACM Research将其Ultra C Ta…

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中德电子首创铬蚀刻液自净化技术 3.5万吨湿电子化学品满产二期将投产

2026年10月18日，位于江阴的中德电子（润玛股份旗下新一…

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盛美上海清洗产品矩阵日趋完整 单片高温SPM约占清洗设备市场三分之一

2026年10月，国内清洗设备龙头盛美上海披露的产品布局显示…

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RCA标准清洗在现代单片设备中的演进 SC1与SC2仍为颗粒与金属去除基石

自上世纪RCA标准清洗流程确立以来，SC1（氨水、双氧水、超…

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全自动晶圆去胶清洗机国产替代提速 特色工艺产线招标本土参与度高

2026年10月，行业对全自动晶圆去胶清洗机市场的盘点显示：…

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CMP后清洗流程拆解：高流量初冲洗去九成浆料 双刷配兆声SC1收尾

CMP（化学机械抛光）之后的清洗是良率守护的关键环节。近期行…

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芯源微获干式显影工艺专利授权 湿法显影向干式工艺拓展

据国家知识产权局信息，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的“…

162026.10

JST推出升级IPA基Apex晶圆干燥机 Marangoni型干燥缩短时间并减少颗粒

2026年10月13日，半导体湿法设备厂商JST宣布推出升级…